Pure Appl. Chem., 2010, Vol. 82, No. 6, pp. 1223-1237
http://dx.doi.org/10.1351/PAC-CON-09-10-35
Published online 2010-04-20
Atmospheric-pressure plasma sources: Prospective tools for plasma medicine
References
- 1. M. IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 714 (2009). ( . http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2009.2017267)
- 2. G. Plasma Process. Polym. 5, 503 (2008). ( , G. Friedman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, A. Fridman. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200700154)
- 3. E. Crit. Rev. Biomed. Eng. 34 (2004). , I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, E. P. van der Laan, D. W. Slaaf.
- 4. E. Contrib. Plasma Phys. 47, 40 (2007). ( . http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200710007)
- 5. M. G. New J. Phys. 11, 115012 (2009). ( , G. Kroesen, G. Morfill, T. Nosenko, T. Shimizu, J. van Dijk, J. L. Zimmermann. http://dx.doi.org/10.1088/1367-2630/11/11/115012)
- 6. S. Plasmas Polym. 6, 175 (2001). ( , M. R. Wertheimer, L. Yahia. http://dx.doi.org/10.1023/A:1013196629791)
- 7. M. Plasma Processes Polym. 2, 391 (2005). ( . http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200400078)
- 8. M. K. J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 3494 (2006). ( , M. Moisan, B. Saoudi, C. Popovici, N. Gherardi, F. Massines. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/39/16/S07)
- 9. R. Surf. Coat. Technol. 131, 528 (2000). ( , J. R. Roth, T. C. Montie, K. Kelly-Wintenberg, P. P. Y. Tsai, D. J. Helfritch, P. Feldman, D. M. Sherman, F. Karakaya, Z. Y. Chen. http://dx.doi.org/10.1016/S0257-8972(00)00803-3)
- 10. M. Plasmas Polym. 9, 23 (2004). ( , W. Neff, O. Franken, P. Muranyi, J. Wunderlich. http://dx.doi.org/10.1023/B:PAPO.0000039814.70172.c0)
- 11. M. Int. J. Pharm. 226, 1 (2001). ( , J. Barbeau, S. Moreau, J. Pelletier, M. Tabrizian, L. H. Yahia. http://dx.doi.org/10.1016/S0378-5173(01)00752-9)
- 12. K. D. J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 194008 (2008). ( , R. Brandenburg, T. von Woedtke, J. Ehlbeck, R. Foest, M. Stieber, E. Kindel. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/41/19/194008)
- 13. J. J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 3520 (2006). ( , M. Zenker. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/39/16/S10)
- 14. K. R. Contrib. Plasma Phys. 47, 64 (2007). ( , J. Woloszko. http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200710010)
- 15. K. R. J. Phys. D: Appl. Phys. 38, 1728 (2005). ( , D. F. McMillen, J. Woloszko. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/38/11/014)
- 16. S. J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 3508 (2006). ( , S. Coulombe, V. Leveille, R. L. Leask. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/39/16/S08)
- 17. S. Pure Appl. Chem. 78, 1147 (2006). ( , V. Leveille, S. Yonson, R. L. Leask. http://dx.doi.org/10.1351/pac200678061147)
- 18. G. Plasma Chem. Plasma Process. 26, 425 (2006). ( , M. Peddinghaus, H. Ayan, A. Fridman, M. Balasubramanian, A. Gutsol, A. Brooks, G. Friedman. http://dx.doi.org/10.1007/s11090-006-9024-4)
- 19. R. E. J. IEEE Trans. Plasma Sci. 32, 1540 (2004). ( , E. Stoffels, R. Walraven, P. J. A. Tielbeek, R. A. Koolhoven. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2004.832636)
- 20. C. Q. IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 1190 (2009). ( , M. T. Chen, C. Schaudinn, A. Gorur, P. T. Vernier, J. W. Costerton, D. E. Jaramillo, P. P. Sedghizadeh, M. A. Gundersen. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2009.2014870)
- 21. W. Stolz, M. Georgi, H.-U. Schmidt, K. Ramrath, R. Pompl, T. Shimizu, B. Steffes, W. Bunk, B. Peters, F. Jamitzky, G. Morfill. First International Conference on Plasma Medicine (ICPM-1), Corpus Christi, TX, USA (2007).
- 22. G. Isbary, W. Stolz, M. Georgi, H.-U. Schmidt, R. Pompl, T. Shimizu, B. Steffes, W. Bunk, F. Jamitzky, S. Fujii, G. Morfill. Second International Conference on Plasma Medicine (ICPM‑2), San Antonio, TX, USA (2009).
- 23. F. Plasma Process. Polym. 5, 322 (2008). ( , G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200700162)
- 24. G. Plasma Process. Polym. 4, 370 (2007). ( , A. D. Brooks, M. Balasubramanian, A. Fridman, A. Gutsol, H. N. Vasilets, A. Ayan, G. Friedman. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200600217)
- 25. M. Plasma Process. Polym. 4, 777 (2007). ( , T. Akan. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200700066)
- 26. U. Plasma Chem. Plasma Process. 23, 1 (2003). ( . http://dx.doi.org/10.1023/A:1022470901385)
- 27. H. E. Vacuum 71, 417 (2003). ( , R. Brandenburg, K. V. Kozlov, A. Sonnenfeld, P. Michel, J. F. Behnke. http://dx.doi.org/10.1016/S0042-207X(02)00765-0)
- 28. K. H. J. Phys. D: Appl. Phys. 39, R55 (2006). ( , K. H. Schoenbach, J. G. Eden. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/39/3/R01)
- 29. U. Contrib. Plasma Phys. 47, 80 (2007). ( . http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200710012)
- 30. S. J. Appl. Phys. Lett. 79, 2100 (2001). ( , J. G. Eden, J. Chen, C. Liu. http://dx.doi.org/10.1063/1.1401791)
- 31. J. Appl. Phys. Lett. 76, 288 (2000). ( , I. Henins, H. W. Herrmann, G. S. Selwyn, J. Y. Jeong, R. F. Hicks, D. Shim, C. S. Chang. http://dx.doi.org/10.1063/1.125724)
- 32. A. IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 1685 (1998). ( , J. Y. Jeong, S. E. Babayan, J. Park, G. S. Selwyn, R. F. Hicks. http://dx.doi.org/10.1109/27.747887)
- 33. E. Plasma Sources Sci. Technol. 11, 383 (2002). ( , A. J. Flikweert, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/11/4/304)
- 34. I. E. Bioelectromagnetics 25, 362 (2004). ( , J. L. V. Broers, V. Caubet-Hilloutou, D. W. Slaaf, F. C. S. Ramaekers, E. Stoffels. http://dx.doi.org/10.1002/bem.20005)
- 35. I. E. IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 771 (2005). ( , D. Darios, A. J. M. Roks, E. Stoffels. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2005.844528)
- 36. R. E. J. J. Phys. D: Appl. Phys. 38, 1716 (2005). ( , E. Stoffels. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/38/11/012)
- 37. E. Phys. Scr. 107, 4 (2004). , R. E. J. Sladek, I. E. Kieft.
- 38. E. J. Phys. D: Appl. Phys. 36, 2908 (2003). ( , I. E. Kieft, R. E. J. Sladek. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/36/23/007)
- 39. E. Plasma Sources Sci. Technol. 15, S169 (2006). ( , I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, L. J. M. van den Bedem, E. P. van der Laan, M. Steinbuch. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/15/4/S03)
- 40. K. D. J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 194008 (2008). ( , R. Brandenburg, T. von Woedtke, J. Ehlbeck, R. Foest, M. Stieber, E. Kindel. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/41/19/194008)
- 41. K. D. Contrib. Plasma Phys. 49, 631 (2009). ( , E. Kindel, R. Brandenburg, C. Meyer, R. Bussiahn, C. Wilke, T. von Woedtke. http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200910067)
- 42. H. IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 859 (2009). , R. Foest, J. Schafer, K. D. Weltmann.
- 43. R. Contrib. Plasma Phys. 47, 119 (2007). ( , E. Kindel, H. Lange, A. Ohl, M. Stieber, K. D. Weltmann. http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200710017)
- 44. R. IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 877 (2009). , H. Lange, T. von Woedtke, M. Stieber, E. Kindel, J. Ehlbeck, K. D. Weltmann.
- 45. K.-D. Contrib. Plasma Phys. 49, 631 (2009). ( , E. Kindel, R. Brandenburg, C. Meyer, R. Bussiahn, C. Wilke, T. von Woedtke. http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200910067)
- 46. V. I. J. Phys. D: Appl. Phys. 33, 2618 (2000). ( , G. J. Pietsch. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/33/20/315)
- 47. G. J. Contrib. Plasma Phys. 41, 620 (2001). ( . http://dx.doi.org/10.1002/1521-3986(200111)41:6<620::AID-CTPP620>3.0.CO;2-H)
- 48. M. Plasma Process. Polym. 7, 244 (2010). ( , T. von Woedtke, K.-D. Weltmann. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200900076)
- 49. M. Plasma Process. Polym. 4, 629 (2007). ( , V. Bruser, H. Kersten. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200700015)
- 50. K. Plasma Process. Polym. 7, 250 (2010). ( , M. Hähnel, R. Brandenburg, C. Wilke, K.-D. Weltmann, T. von Woedtke. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200900077)
- 51. U. J. Phys. IV 7, 47 (1997). ( , B. Eliasson, W. Egli. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1997405)
- 52. Z. J. Appl. Phys. 81, 5975 (1997). ( . http://dx.doi.org/10.1063/1.364386)
- 53. F. J. IEEE Trans. Plasma Sci. 30, 1416 (2002). ( , W. J. Neff, O. Franken, M. Heise, M. Neiger, S. H. Liu, G. J. Pietsch, A. B. Saveljew. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2002.804182)
- 54. S. Plasma Process. Polym. 4, S465 (2007). ( , N. Mertens, J. Wang, W. Viöl. http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200731208)
- 55. G. Fridman, A. Gutsol, V. Vasilets, A. Fridman, G. Friedman. ISPC 18 (Kyoto), p. 4 (2007).
- 56. G. Fridman, R. Sensing, S. Kalghatgi, A. Shereshevsky, M. Balasubramanian, A. Gutsol, V. Vasilets, A. Brooks, A. Fridman, G. Friedman. ISPC 18 (Kyoto), p. 4 (2007).
- 57. G. Fridman, A. Shereshevsky, M. Balasubramanian, M. Peddinghaus, A. Brooks, A. Gutsol, V. Vasilets, A. Fridman, G. Friedman. ISPC 18 (Kyoto), p. 4 (2007).
- 58. U. IEEE Trans. Plasma Sci. 30, 1400 (2002). ( . http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2002.804201)
- 59. H. E. J. Adv. Oxidation Technol. 7, 11 (2004). , R. Brandenburg, K. V. Kozlov.
- 60. B. J. Phys. D: Appl. Phys. 20, 1421 (1987). ( , M. Hirth, U. Kogelschatz. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/20/11/010)
- 61. K. V. J. Phys. D: Appl. Phys. 34, 3164 (2001). ( , H. E. Wagner, R. Brandenburg, P. Michel. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/34/21/309)
- 62. C. Plasma Sources Sci. Technol. 10, 445 (2001). ( , M. Spaan, V. Schulz-von der Gathen, M. Thomson, R. Wegst, H. F. Dobele, M. Neiger. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/10/3/308)
- 63. V. Contrib. Plasma Phys. 47, 510 (2007). ( , V. Buck, T. Gans, N. Knake, K. Niemi, S. Reuter, L. Schaper, J. Winter. http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200710066)
- 64. N. J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 055207 (2009). ( , M. Laroussi, A. Begum, E. Karakas. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/42/5/055207)
- 65. B. L. IEEE Trans. Plasma Sci. 36, 956 (2008). ( , B. N. Ganguly, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2008.917789)
- 66. M. IEEE Trans. Plasma Sci. 36, 1298 (2008). ( , W. Hynes, T. Akan, X. P. Lu, C. Tendero. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2008.922432)
- 67. J. J. Phys. Plasmas 15, 013504 (2008). ( , F. C. Zhong, J. Zhang, D. W. Liu, M. G. Kong. http://dx.doi.org/10.1063/1.2828551)
- 68. M. IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 310 (2005). ( , J. Kedzierski, E. G. Finantu-Dinu, D. Korzec, J. Engemann. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2005.845377)