Pure Appl. Chem., 2010, Vol. 82, No. 6, pp. 1189-1199
http://dx.doi.org/10.1351/PAC-CON-09-10-09
Published online 2010-04-20
Microplasma generation in artificial media and its potential applications
References
- 1. Y. Jpn. J. Appl. Phys. 33, L804 (1994). ( , K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.33.L804)
- 2. O. Plasma Phys. Control. Fusion 49, B453 (2007). ( , T. Sakaguchi, T. Naito, D.-S. Lee, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/49/12B/S43)
- 3. V. Phys. Rev. B 55, 7427 (1997). ( , A. A. Maradudin. http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.55.7427)
- 4. O. J. Appl. Phys. 101, 073304 (2007). ( , T. Sakaguchi, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1063/1.2713939)
- 5. T. J. Appl. Phys. 101, 073305 (2007). ( , O. Sakai, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1063/1.2713940)
- 6. M. IEEE Trans. Plasma Sci. 33, 310 (2005). ( , J. Kedzierski, E. G. Finantu-Dinu, D. Korzec, J. Engemann. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2005.845377)
- 7. B. L. IEEE Trans. Plasma Sci. 36, 956 (2008). ( , B. N. Ganguly, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2008.917789)
- 8. K. Appl. Phys. Expr. 1, 066004 (2008). ( , Y. Ito, K. Tachibana, B. N. Ganguly. http://dx.doi.org/10.1143/APEX.1.066004)
- 9. X.-P. J. Appl. Phys. 100, 063302 (2006). ( , M. Laroussi. http://dx.doi.org/10.1063/1.2349475)
- 10. G. V. Naidis. Proc. 19th Int. Symposium on Plasma Chemistry, O3.01, Bochum, Germany (2009).
- 11. N. IEEE Trans. Plasma Sci. 36, 960 (2008). ( , S. Ibuka, S. Ishii. http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2008.924517)
- 12. Y. Appl. Phys. Expr. 1, 067009 (2008). ( , K. Urabe, N. Takano, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1143/APEX.1.067009)
- 13. O. Appl. Phys. Lett. 93, 231501 (2008). ( , M. Kimura, T. Shirafuji, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1063/1.3006348)
- 14. O. J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 202004 (2009). ( , T. Morita, N. Sano, T. Shirafuji, T. Nozaki, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/42/20/202004)
- 15. O. J. Phys. D: Appl. Phys. 38, 431 (2005). ( , Y. Kishimoto, K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/38/3/012)
- 16. Y. Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 33, L476 (1994). ( , K. Tachibana. http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.33.L476)