Pure Appl. Chem., 2008, Vol. 80, No. 9, pp. 1909-1918
http://dx.doi.org/10.1351/pac200880091909
Self-organized nanoarrays: Plasma-related controls
References
- 1. K. Ostrikov. Rev. Mod. Phys. 77, 489 (2005). (http://dx.doi.org/10.1103/RevModPhys.77.489)
- 2. M. Keidar, Y. Raitses, A. Knapp, A. M. Waas. Carbon 44, 1022 (2006). (http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2005.10.008)
- 3. A. Okita, Y. Suda, A. Oda, J. Nakamura, A. Ozeki, K. Bhattacharyya, H. Sugawara, Y. Sakai. Carbon 45, 1518 (2007). (http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2007.03.022)
- 4. A. Okita, Y. Suda, A. Ozeki, H. Sugawara, Y. Sakai, A. Oda, J. Nakamura. J. Appl. Phys. 99, 014302 (2006). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2150599)
- 5. Z. L. Tsakadze, K. Ostrikov, J. D. Long, S. Xu. Diam. Relat. Mater. 13, 1923 (2004). (http://dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2004.06.010)
- 6. M. Hiramatsu, K. Shiji, H. Amano, M. Hori. Appl. Phys. Let. 84, 4708 (2004). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1762702)
- 7. I. Levchenko, A. E. Rider, K. Ostrikov. Appl. Phys. Lett. 90, 193110 (2007). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2737428)
- 8. I. Levchenko, K. Ostrikov. J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2308 (2007). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/40/8/S11)
- 9. I. Levchenko, K. Ostrikov, J. D. Long, S. Xu. Appl. Phys. Lett. 91, 113115 (2007). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2784932)
- 10. I. B. Denysenko, S. Xu, J. D. Long. J. Appl. Phys 95, 2713 (2004). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1642762)
- 11. A. Okita, A. Ozeki, Y. Suda, J. Nakamura, A. Oda, K. Bhattacharyya, H. Sugawara, Y. Sakai. Jpn. J. Appl. Phys. 45, 8323 (2006). (http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.45.8323)
- 12. K. N. Ostrikov, S. Xu, M. Y. Yu. J. Appl. Phys. 88, 2268 (2000). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1289055)
- 13. K. Ostrikov, Z. Tsakadze, P. P. Rutkevych, J. D. Long, S. Xu, I. Denysenko. Contrib. Plasma Phys. 45, 514 (2005). (http://dx.doi.org/10.1002/ctpp.200510057)
- 14. F. J. Gordillo-Vazquez, J. M. Albella. J. Appl. Phys. 94, 6085 (2003). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1617362)
- 15. U. Cvelbar, B. Markoli, I. Poberaj, A. Zalar, L. Kosec, S. Spaic. Appl. Surf. Sci. 253, 1861 (2006). (http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2006.03.028)
- 16. S. Xu, J. Long, L. Sim, C. H. Diong, K. Ostrikov. Plasma Process. Polym. 2, 373 (2005). (http://dx.doi.org/10.1002/ppap.200400094)
- 17. F. J. Gordillo-Vazquez, A. Perea, J. A. Chaos, J. Gonzalo, C. N. Afonso. Appl. Phys. Lett. 78, 7 (2001). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1335853)
- 18. F. J. Gordillo-Vazquez, A. Perea, A. P. McKiernan, C. N. Afonso. Appl. Phys. Lett. 86, 181501 (2005). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1922574)
- 19. K. Ostrikov, A. B. Murphy. J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2223 (2007). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/40/8/S01)
- 20. C. Mirpuri, S. Xu, J. D. Long, K. Ostrikov. J. Appl. Phys. 101, 024312 (2007). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2423224)
- 21. I. Levchenko, K. Ostrikov, E. Tam. Appl. Phys. Lett. 89, 223108 (2006). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2388941)
- 22. S. Xu, K. Ostrikov, J. D. Long, H. Y. Huang. Vacuum 80, 621 (2006). (http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2005.07.010)
- 23. I. Levchenko, K. Ostrikov, S. Xu. Appl. Phys. Lett. 89, 033109 (2006). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2222249)
- 24. M. Keidar, A. M. Waas. Nanotechnology 15, 1571 (2004). (http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/15/11/034)
- 25. M. Keidar. J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2388 (2007). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/40/8/S18)
- 26. K. G. Kostov, J. J. Barroso. IEEE Trans. Plasma Sci. 34, 1127 (2006). (http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2006.878390)
- 27. I. Levchenko, K. Ostrikov, M. Keidar, S. Xu. J. Appl. Phys. 98, 064304 (2005). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2040000)
- 28. H. Masuda, K. Yasui, K. Nishio. Adv. Mater. 12, 1031 (2000). (http://dx.doi.org/10.1002/1521-4095(200007)12:14<1031::AID-ADMA1031>3.0.CO;2-R)
- 29. U. Cvelbar, M. Mozetic. J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2300 (2007). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/40/8/S09)
- 30. F. Rosei. J. Phys. Condens. Matter 16, S1373 (2004). (http://dx.doi.org/10.1088/0953-8984/16/17/001)
- 31. I. Levchenko, O. Baranov. Vacuum 72, 205 (2003). (http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2003.08.004)
- 32. K. N. Ostrikov, S. Kumar, H. Sugai. Phys. Plasmas 8, 3490 (2001). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1375149)
- 33. I. Levchenko, M. Romanov, M. Keidar. J. Appl. Phys. 94, 1408 (2003). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1590054)
- 34. E. Tam, I. Levchenko, K. Ostrikov. J. Appl. Phys. 100, 036104 (2006). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2219378)
- 35. I. Levchenko, M. Romanov. Appl. Phys. Lett. 85, 2202 (2004). (http://dx.doi.org/10.1063/1.1792795)
- 36. Z. L. Tsakadze, I. Levchenko, K. Ostrikov, S. Xu. Carbon 45, 2022 (2007). (http://dx.doi.org/10.1016/j.carbon.2007.05.030)
- 37. F. Rosei, M. Schunack, Y. Naitoh, P. Jiang, A. Gourdon, E. Laegsgaard, I. Stensgaard, C. Joachim, F. Besenbacher. Prog. Surf. Sci. 71, 95 (2003). (http://dx.doi.org/10.1016/S0079-6816(03)00004-2)
- 38. I. Levchenko, K. Ostrikov, A. E. Rider, E. Tam, S. V. Vladimirov, S. Xu. Phys. Plasmas 14, 063502 (2007). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2744353)
- 39. Q. Cheng, S. Xu, J. Long, K. Ostrikov. Appl. Phys. Lett. 90, 173112 (2007). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2731728)
- 40. K. Ostrikov, J. D. Long, P. P. Rutkevych. S. Xu. Vacuum 80, 1126 (2006). (http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2006.01.025)
- 41. I. Levchenko, K. Ostrikov. Appl. Phys. Lett. 92, 063108 (2008). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2841845)
- 42. I. Levchenko, K. Ostrikov, A. B. Murphy. J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 092001 (2008). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/41/9/092001)
- 43. K. Ostrikov, I. Levchenko, S. Xu, S. Y. Huang, Q. J. Cheng, J. D. Long, M. Xu. Thin Solid Films 516, 6609 (2008). (http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2007.11.045)
- 44. I. Levchenko, K. Ostrikov. Nanotechnology 19, 335703 (2008). (http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/33/335703)
- 45. A. E. Rider, I. Levchenko, K. Ostrikov. Nanotechnology 19, 355705 (2008). (http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/35/355705)
- 46. I. Levchenko, K. Ostrikov, M. Keidar, U. Cvelbar. J. Phys. D: Appl. Phys. 41, 132004 (2008). (http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/41/13/132004)
- 47. S. Y. Huang, K. Ostrikov, S. Xu. J. Appl. Phys. 104, 033301 (2008). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2963694)
- 48. M. Keidar, I. Levchenko, T. Arbel, M. Alexander, A. M. Waas, K. Ostrikov. Appl. Phys. Lett. 92, 043129 (2008). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2839609)
- 49. U. Cvelbar, K. Ostrikov, A. Drenik, M. Mozetic. Appl. Phys. Lett. 92, 133525 (2008). (http://dx.doi.org/10.1063/1.2905265)
- 50. L. Yuan, X. X. Zhong, K. Ostrikov. Nanotechnology 19, 155304 (2008). (http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/15/155304)